光刻胶又称光致抗蚀剂，是由感光树脂、增感剂和溶剂等组成的光敏感混合液体。

    它在集成电路、太阳能光伏、微机电系统等领域应用广泛。

    高均匀性的光刻胶薄膜多采用旋转涂胶工艺。

    利用旋转涂胶工艺所获得的光刻胶薄膜终厚度是由光刻胶的粘度、表面张力和转盘的旋转角速度等因素决定；

    绝大多数的光刻胶因旋转涂胶时的离心力被甩离晶圆表面，造成浪费现象，故光刻胶利用率极低。

    针对光刻胶涂覆工艺(旋转涂胶工艺)的浪费和环境污染问题；

    超声波在自行研发的120KHZ的超声波雾化喷涂设备的基础上，对光刻胶喷涂工艺进行改进。

    超声波雾化喷涂设备电源功耗(10W)低，产生的雾化液滴平均粒径小、均匀性好；

    液滴直接喷涂在晶圆表面上的光刻胶利用率高，因此它被认为是一种绿色的光刻胶薄膜制备工艺。

    而普通超声波雾化喷涂设备表面的雾化液滴初始速度小，易于受到周围空气的扰动；

    不利于获得高质量的光刻胶薄膜，难以实现理想的喷涂效果。

    为此，超声波在超声波雾化喷涂设备中加入载气模块增加雾化液滴的动力；

    控制雾化喷涂方向和范围，实现光刻胶薄膜的定向喷涂于基底的晶圆表面。