发布日期:2022-10-18 点击率:44
本文来自Qorvo公众号
引言:2017 年,Qorvo 出版了第 1 版《5G 射频技术 For Dummies》。该书以通俗易懂的语言,帮助业界许多人士掌握了一些围绕 5G 技术的复杂概念。在之前,我们也做了《科普丨重新认识 5G》、《科普丨了解 5G 核心实现技术》、《科普丨发现 5G 的不同之处》、《科普丨介绍 5G 3GPP 全球频谱》和《科普丨深入了解 5G NR》五篇报道。
今天,我们将带大家认识一下 5G 的射频技术。
5G 愿景的真正实现,还需要更多创新。网络基站和用户设备(例如:手机)变得越来越纤薄和小巧,能耗也变得越来越低。为了适合小尺寸设备,许多射频应用所使用的印刷电路板(PCB)也在不断减小尺寸。因此,射频应用供应商必须开发新的封装技术,尽量减小射频组件的占位面积。再进一步,部分供应商开始开发系统级封装办法(SiP),以减少射频组件的数量——尽管这种办法将会增加封装成本。
系统级封装办法正在被用于射频前端,而射频前端包含基站与天线中间的所有组件。
一个典型的射频前端由开关、滤波器、放大器及调谐组件组成。这些技术设备的尺寸不断减小,并且相互集成度不断加大。结果,在手机、小蜂窝、天线阵列系统、Wi-Fi 等 5G 应用中,射频前端正在变成一个复杂的、高度集成的系统封包。
不管怎样,5G愿景的实现都需要射频技术和封装技术的颠覆性创新。
氮化镓技术
氮化镓(GaN)是一种二进制 III/V 族带隙半导体,非常适合用于高功率、耐高温晶体管。氮化镓功率放大器技术的 5G 通信潜力才刚刚显现。氮化镓具有高射频功率、低直流功耗、小尺寸及高可靠性等优势,让设备制造商能够减小基站体积。反过来,这又有助于减少 5G 基站信号塔上安装的天线阵列系统的重量,因此可以降低安装成本。另外,氮化镓还能在各种毫米波频率上,轻松支持高吞吐量和宽带宽。
氮化镓技术最适合实现高有效等向辐射基站功率(EIRP),如图 4-5 所示。美国联邦通信委员会定义了非常高的 EIRP 限值,规定对于 28GHz 和 39GHz 频带,每 100MHz 带宽需要达到 75 dBm 功率。因此带来了哪些挑战?相关设备的搭建既要满足这些目标,又要将成本、尺寸、重量和功率等保持在移动网络运营商的预算范围内。氮化镓技术是关键;相比于其他技术,氮化镓技术在达到以上高 EIRP 值时,使用的元件更少,并且输出功率更高。
图 4-5:半导体技术与 EIRP 需求的适应性比较。
对于高功率基站应用,相比于锗硅(SiGe)或硅(Si)等其他功率放大器技术,在相同 EIRP 目标值下,氮化镓技术的总功率耗散更低,如图 4-6 所示。氮化镓减少了整体系统的重量和复杂性,同时还仍保持较低功耗,因此更适合塔上安装系统的设计。
氮化镓技术的部分重要属性:
由于新增频带和载波聚合,再加上蜂窝通信必须与许多其他无线标准共存的事实,干涉问题比以往更加严重。要减少频带与标准之间的干涉,滤波器技术是关键。
表面声波滤波器和体声波滤波器具有占位面积小、性能优异、经济适用等优势,在移动设备滤波器市场上居于主导地位。
射频前端由多个半导体技术设备组成。众多的 5G 应用需要五花八门的处理技术、设计技巧、集成办法和封装办法,以满足各个独特用例的需求。
对于 5G 的 7GHz 以下频段,相应的射频前端解决方案需要创新封装办法,例如,提高组件排列的紧凑度;缩短组件之间的导线长度,以尽量减少损耗;采用双面安装;划区屏蔽;以及使用更高质量的表面安装技术组件等。
所有 5G 用例都需要射频前端技术。根据射频功能、频带、功率等级等性能要求,射频半导体技术的选择不尽相同。如图 4-9 所示,每个射频功能和应用分别对应多个半导体技术。这些应用需要五花八门的处理技术、设计技巧、集成办法和封装办法,以满足各个独特用例的特定需求。
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