在真空技术中，“烘烤”术语是指真空系统运转过程中，将真空系统或系统中某一部件加热升温烘烤一段时间，烘烤阶段中系统内材料解析的气体用真空泵抽除，结束烘烤后再降到室温，从而缩短抽气时间，加快到达规定的真空度。此外，高温烘烤还可以清除部件表面油脂等的污染物。

    无论是金属还是玻璃系统，不对系统内材料进行除气，室温下要获得10^-6Pa以上的超高真空，需要几天甚至数周连续不断地抽气才能到达。为缩短获得超高真空的运转时间，最简单有效的方法就是对容器进行“烘烤”除气，此外还可以采用离子轰击除气、光除气和辐射除气等手段，降低材料的出气速率。

    离子轰击除气多用于真空规管、小型真空容器或工件的除气，系统中的测量规管在测量前也应进行离子轰击除气，用以减少规管出气引起的测量误差。而光除气、辐射除气不仅效果差，还受到各种条件的限制，除一些特殊装置外，很少应用。

(慧朴科技，huiputech)