除了真空室需要高温烘烤外，常用的超高真空泵，例如涡轮分子泵、溅射离子泵、钛升华泵、低温泵等在允许的温度下也应对泵本身进行烘烤。超高真空计烘烤后可使测量更精确，否则规管内材料的出气会对测量产生大的误差。在表面研究及某些生产工艺中，要求对试件(工件)及支架进行彻底烘烤用以获得“清洁新鲜”基体表面。

    烘烤温度通常根据被烘烤材料所允许的最高温度、系统的极限压力等因素确定。电子管、灯泡及各类静态系统在封离之前，必须进行彻底烘烤，烘烤温度一般不低于管子正常工作时的最高温度。

    动态金属超高系统烘烤温度范围为150~450℃(最高烘烤温度约800℃)，可根据系统用材允许的最高烘烤温度选用。采用150℃较低的烘烤温度时，需要适当延长烘烤时间来弥补烘烤温度的不足。烘烤应当在10^-3~10^-4Pa压力下进行，烘烤开始出气的主要成分是水，最后的气体成分是氢，实际情况可能要复杂得多。

    除材料的出气外，大气的渗漏是不可忽略的重要因素。反复烘烤后金属密封垫圈表面的污染物以及温度交变可能会加重金属密封的凸凹不平面，会出现许多细小的泄漏点。如果容器连接有薄壁波纹管，在高温烘烤期间氮气的渗漏，也会影响超高真空系统的残气成分。

(慧朴科技，huiputech)